森美術館で開催されている「アイ・ウェイウェイ展」では作品の写真撮影が許可されており、撮影した写真にCCライセンスをつけて自由利用することが可能になるという仕組みを採用しました。

東京・森美術館では、現代中国を代表するクリエイター、アイ・ウェイウェイ［艾未未］さんによる「アイ・ウェイウェイ展—何に因って？」が7月25日より開催されました。
新作6点を含め、1990年代以降の主要作品26点を紹介しており、アイ・ウェイウェイさんの個展としては過去最大級のものだそうです。非常に刺激に満ちた内容となっていました。

そしてこの展覧会では、著作権等の問題で写真撮影が認められない美術館が多い中で、観客が作品を写真に撮ることを許可するという取り組みを試験的に行いました。
撮影した写真は「表示ー非営利ー改変禁止」のCCライセンスで自由に利用することができます。

http://www.mori.art.museum/contents/aiweiwei/related/index.html

森美術館長である南条史生さんは「日本の美術館は少し厳しすぎる。知的財産をもっと創造的に使える条件をつくりたい」と話しているそうで、このような試みが少しずつ広がって行くことをとても期待しています。